안녕하세요.

 

ETCH 공정 CCP 설비 관련하여 Plasma 변동성 해석 중인데, 아래와 같은 경우 HF/LF Vpp 값이 어떻게 변화하는지 알 수 있을까요?

어떤 원리에 의해서 그런 변화가 발생하는지도 궁금합니다.

 

- 특정 부품(Edge Ring)의 Capacitance 감소 → Impedance 증가 → HF Vpp? LF Vpp? (증가? or 감소?)

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