안녕하세요 PECVD 설비를 맡고 있는 엔지니어입니다.

현업에 종사하고 있음에도 알기 어려운 것들을, 교수님을 통해 알아가며 업무에 정말 많은 도움이 됩니다, 감사드립니다.

 

이번에 드리고자 하는 질문은 Sheath에 걸리는 전압 및 전력에 대한 것 입니다. 

임피던스 매칭을 공부하며 파워는 저항에서만 소모되고 C나 L 같은 리엑턴스에서는 위상지연만 일어난다는 것을 알았습니다.

하지만 이해가 안가는 부분이 있습니다.

 

챔버를 임피던스로 표현할 땐, 플라즈마 Bulk는 R(저항)으로 표현되고, Sheath는 C(커패시터)로 표현할 수 있는데, 이 때 Power는 저항인 Plasma Bulk에서만 소비된다고 이해 했습니다.

그런데, Self Bias관련 자료에서는, Sheath에서 대부분의 전압강하가 일어나고, Bulk의 Potential은 일정하다고 되어있어 이해에 어려움이 있습니다.

즉, 등가회로로 표현할 땐 볼티지 드랍이 플라즈마 벌크에서 일어나는 자료와, Self Bias를 설명하는 자료에서는 Sheah에서 대부분 Voltage drop 이 일어난다고 하니 상충되는것으로 받아들여집니다.

 

이를 이해 하기위해 어떤 이론이 부족한지, 또는 잘못 알고 있는지를 모르겠어서, 다시 한번 질문 남기게 되었습니다.

귀한 시간 내주셔서 진심으로 감사드립니다..!

 

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [297] 77471
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20570
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57503
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69017
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93123
714 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 482
713 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 483
712 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 484
711 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 485
710 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 487
709 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 495
708 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 503
707 plasma striation 관련 문의 [1] file 510
706 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 513
705 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 515
704 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 515
703 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 524
702 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 525
701 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 527
700 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 528
699 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 536
698 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 554
697 self bias [1] 557
696 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 558
695 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 560

Boards


XE Login