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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73341
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181 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의] [1] 1614
180 전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과] [1] file 1623
179 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1639
178 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요 [RF power와 power factor] [1] 1646
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175 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1703
174 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1723
173 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1731
172 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1759
171 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection] [1] 1795
170 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1818
169 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1836
168 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1864
167 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1925
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163 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry] [3] 2086
162 RF 전압과 압력의 영향? [DC glow 방전, Paschen's Law] [1] 2260

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