Sheath CVD 공정에서의 self bias

2021.06.13 19:47

박관호 조회 수:3034

안녕하세요 반도체 제조업에서 설비업무 맡고있는 저년차 사원입니다.

 

self bias 현상이 일어나게 되는 메커니즘을 3가지정도 배웠습니다.

1. RF 관점에서 순전류는 0이어야하기 때문에 더 크고 무거운 ion을 끌어오기 위해서 전극의 전위가 낮아지는 효과

2. 전극의 크기 차이로 인한 전자의 축적으로 전극의 전위가 낮아지는 효과

3. blocking capacitor에서의 전자의 축적으로 전극의 전위가 낮아지는 효과

 

실제로 CVD chamber 내 shower head보다 heater의 크기가 작고 blocking capacitor의 존재로 2번, 3번은 납득이 됩니다..

 

사내 semina에서 배우기로는 ETCH 설비와 다르게 CVD 설비는 shower head에 RF가 인가되고 heater쪽이 접지로 연결되어 있다고 했는데..

그렇다면 1번 효과에 의해 heater가 아니라 shower head쪽 전극이 음극역할을 하게 되는건가요???

(http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&document_srl=81598 에서의 답변 참고했습니다)

 

만약 맞다면, 2번,3번 효과의 경우 heater쪽 전위가 낮아지게 되는걸로 보이는데, 1번에 의한 효과와 서로 경쟁하는건가요????

 

학부출신으로 회사와서 아는건 없고 궁금한건 많은데 얕게 배운 지식으로 업무와 연관지으려 하니 힘이드네요 교수님..

많이 배워가고 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
172 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1414
171 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1437
170 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1442
169 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1453
168 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1476
167 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1520
166 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1550
165 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1564
164 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1635
163 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1668
162 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1677
161 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1690
160 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1734
159 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1782
158 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1855
157 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1878
156 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1925
155 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1944
154 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1947
153 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1950

Boards


XE Login