|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[268]
| 76712 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20168 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57164 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68692 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92267 |
|
21 |
Dry Etcher 내 reflect 현상
[2] | 22239 |
|
20 |
MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22579 |
|
19 |
Peak RF Voltage의 의미
| 22602 |
|
18 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22940 |
|
17 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23332 |
|
16 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 24573 |
|
15 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24747 |
|
14 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24772 |
|
13 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24849 |
|
12 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25581 |
|
11 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26182 |
|
10 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26466 |
|
9 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27208 |
|
8 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27612 |
|
7 |
esc란?
| 28067 |
|
6 |
Arcing
[1] | 28642 |
|
5 |
matching box에 관한 질문
[1] | 29665 |
|
4 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
| 35902 |
|
3 |
Ground에 대하여
| 39395 |
|
2 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 41233 |
