안녕하세요, 

현재 스퍼터 장비를 사용하기에 앞서 플라즈마에 대해 공부하고 있는 서울대학교 대학원생입니다. 

스퍼터 장비에서 사용되는 DC,RF파워간의 차이, reative, magnetron을 사용하는 이유와 과정에 대해 전반적으로 공부하고 이해하는 과정에서 

가장 원초적인 궁금증이 생겼고, 이에 대한 명쾌한 답을 찾을 수 없어서 질문드립니다. 

 

Q1) 챔버내에서 타겟,기판,고온 조건이 없더라도 방전기체를 넣어주고 파센의법칙에 의해 계산된 전기장을 가해주면 플라즈마를 발생시킬 수 있다고 알고 있고, 실제로 발생하는 것을 확인하였습니다. 그렇다면 폐쇄된 강의실에 매우 강한 전기장을 가해준다면 실제로 강의실에 플라즈마가 생기는 것을 확인 할 수 있나요? 없다면 왜 그런지 알고 싶습니다. (폐쇄되었다는 조건외에는 별다른 조건이 없습니다)

 

Q2) 플라즈마 발생 과정에서 source가 되는 seed electron은 진공상태여도 챔배내에 존재하게 되는데 도데체 이 seed electron은 정확히 어디서, 어떻게 생겨났으며, 챔버내에서 어떤식으로 존재하게 되는건가요? 

 (저는 그저 cosmic rays에 의해 생겨난 전자가 자연상태를 돌아다니까 챔버내에서도 당연하게 존재한다고만 알고 있습니다.)

 

 

짧지 않는 글 읽어주셔서 감사합니다. 또한 답변주시면 감사하겠습니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5803
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17213
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53033
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64476
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85090
598 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 583
597 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 584
596 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 589
595 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 593
594 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 597
593 ICP 후 변색 질문 598
592 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 598
591 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 601
590 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 606
589 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 606
» 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 613
587 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 622
586 Collisional mean free path 문의... [1] 627
585 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 628
584 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 630
583 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 640
582 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 647
581 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 655
580 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 662
579 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 664

Boards


XE Login