안녕하세요~.

저는 KIST에서 고분자 나노패턴을 연구하고 있는 손정곤 입니다.

RIE를 사용하면서 항상 블랙박스와 같이 루틴하게만 에칭을 위해 사용하고는 했는데, 궁금한 점이 있어 질문 드리게 되었습니다.

RIE 시에 형성되는 플라즈마로 인하여, 일반적인 substrate에는 

1. 플라즈마로 인한 E-field가 걸리는 곳에 이온화된 기체 원자가 직접 부딪히며 생기는 효과와

2. reactive한 radical 형태의 중성 입자가 날라와서 반응하는 효과,

2. 플라즈마로 인하여 형성되는 빛, 그러니까 plasma UV/vacuum UV (VUV) photoemissions로 생기는 효과

세 가지가 동시에 영향을 미칠 것으로 생각됩니다. 

이 경우에, 3번의 형성되는 빛으로 인한 효과는 막으면서 1,2 번의 ion과 radical의 효과만 얻는 방법이 있을 지 궁금합니다.

개인적인 생각은 grating mask(complementary filter?)를 교차로 설치하여 빛의 투과는 막으며 이온과 라디칼은 흘러가서 샘플을 때리게 하고 싶은데, 

그렇다면 이 샘플위에 부양시켜 설치하려는 grating mask는 부도체여야 하는지 도체여야 하는지, 도체라면 아래의 RF 전극과 연결되어야 하는지, 아니면 grounding이 되어야 하는 지 등등이 궁금합니다. 

grating mask가 도체면 RIE의 geometry가 변형되어 e-field 등이 변하고 ion의 움직임도 변할 것 같아 질문드립니다.

여기에서 많은 것들을 배워갑니다. 감사드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [110] 4863
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16200
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51246
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63739
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83486
576 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 538
575 교수님 질문이 있습니다. [1] 540
574 전자 온도 구하기 [1] file 549
573 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 553
572 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 554
571 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 556
570 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 569
569 ICP 후 변색 질문 573
568 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 578
567 plasma 형성 관계 [1] 580
566 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 584
565 Collisional mean free path 문의... [1] 587
564 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 592
563 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 599
562 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 607
561 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 612
» RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 621
559 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 621
558 알고싶습니다 [1] 623
557 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 630

Boards


XE Login