안녕하세요.

반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.

자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는 

전량 수입에 의존 하고 있습니다.

언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를 

주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라

고 할 수 있습니다.

자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다, 

핵심 기술에 대한  위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.

교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으

합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 950
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49376
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59488
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 74194
537 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 446
536 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 446
535 CVD 공정에서의 self bias [1] 449
534 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 450
533 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 454
532 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 454
» 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 477
530 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 478
529 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 483
528 Collisional mean free path 문의... [1] 489
527 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 491
526 ICP 후 변색 질문 493
525 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 499
524 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 505
523 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 511
522 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 525
521 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 525
520 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 527
519 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 529
518 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 532

Boards


XE Login