안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [159] 73018
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17612
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55513
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65694
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86025
605 교수님 질문이 있습니다. [1] 601
604 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 603
603 anode sheath 질문드립니다. [1] 606
602 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 613
601 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 614
600 ICP 후 변색 질문 619
599 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 624
598 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 629
597 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 631
596 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 632
595 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 637
594 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 640
593 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 644
592 Collisional mean free path 문의... [1] 655
591 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 661
590 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 671
589 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 679
588 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 679
587 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 683
586 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 684

Boards


XE Login