안녕하세요. 플라즈마 연구실에서 식각 공정을 연구중인 대학원생입니다.

 

CF4 등 flourine 계열의 식각 가스를 사용하는 ICP 챔버를 이용해 관련 연구를 진행하고 있습니다.

연구 특성상 식각 가스를 비교적 장시간 사용 하고 있는데요, (ex) 실험 1 run당 continous하게 flourine plasma 1 시간 방전) 그러다보니 

실험을 진행함에 따라 안테나 쪽 dielectric, edge ring, chamber wall 등 이 점점 까맣게 바뀌고 있습니다.

 

결정적인 문제는 Ar이나 N2 plasma 방전 실험에서도 시료 표면에서 flourine 성분이 측정되어, 플라즈마 방전 시, 챔버 parts 표면에서 flourine이 나오는 것으로 추정하고 있습니다. 실험간 O2 plasma를 통해 carbon에 대한 conditioning은 진행하고 있지만 잔류 flourine도 제거하는 방법이 있을 지 여쭙고 싶습니다.

없다면 챔버 parts에 대한 보수를 진행하려고 하는데, liner를 사용하지 않는 챔버라 wall에 대한 보수는 현실적으로 어려운 상황워서 conditioning이 간절하네요..

 

H2 plasma를 사용하여 Si wafer의 flourine을 제거하는 논문을 일부 보긴 했습니다만, 챔버 내부 parts에 대해서도 유효한 방법일 지는 모르겠습니다.

 

답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5597
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16873
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51346
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64205
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84185
591 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 564
590 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 566
589 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 566
588 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 567
587 교수님 질문이 있습니다. [1] 568
586 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 571
585 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 574
584 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 576
583 ICP 후 변색 질문 585
582 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 594
581 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 599
580 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 605
579 Collisional mean free path 문의... [1] 606
578 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 614
577 플라즈마 관련 교육 [1] 616
576 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 619
575 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 620
574 전자 온도 구하기 [1] file 626
573 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 640
572 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 642

Boards


XE Login