이전 질문글에 댓글이 달리지 않아 새로 글을 작성하게 되었습니다.

 

이전 질문 글의 어디가 틀렸고 어디가 맞았는지 꼼꼼하게 짚어주셔서 정말 감사드립니다.
답변해 주신 글을 읽다 보니 더 질문점이 생겨서 댓글 작성합니다.

 

 

1) 비충돌성 쉬스와 충돌성 쉬스를 구분하는 기준은 무엇인가요? 

 

- MFP(Lamda)와 CCP 반응기 두 극판 사이의 거리(l) 비교 : Lamda << l
- MFP(Lamda)와 쉬스 두께 비교 : Lamda << Sheath Thickness

 

 

 

2) 이전 질문글의 답변에 Ar의 MFP를 0.01~0.005 mm 라고 답변해 주셨는데 어떻게 계산 된건지 궁금합니다.


MFP(Lamda)를 구하는 공식을 다음과 같이 알고 있습니다.

 

Lamda = 1 / (N_g * Sigma)
N_g = (n * N_A) / V = P * N_A / (R * T)

 

N_g : 단위 부피 당 원자 수
Sigma : Ar의 Cross section
n : 몰 수
N_A : 아보가드로 수
V : 부피
P : 압력 = 2000 mTorr
R : 기체상수 = 62.363 m^3*mTorr/(K*mol)
T : 온도 = 673 K

 

위 값들을 대입하여

 

N_g = 2.87*10^22 m^-3

 

이 나왔습니다.

 

2T 및 5T의 공정에서 Vrms는 113ev 수준으로 비슷했고 따라서

 

http://plasma.kisti.re.kr/index.jsp 에서 Ar의 Total Ionization Cross section, Total Scattering Cross section 중 에너지가 110ev 즈음의 산란 단면적을 찾아봤습니다.

 

Ionization 2.5*10^-16 cm^2 = 2.5*10^-20 m^2
Scattering 8*10^-16 cm^2 = 8*10^-20 m^2
Excitation 0.7*10^-16 cm^2 = 0.7*10^-20 m^2

 

위 산란 단면적을 모두 합하여 Sigma 값을 구했고 이 값을 아래 식에 대입하니

 

Lamda = 1 / (N_g * Sigma) = 0.00031 m = 0.31 mm

 

0.31 mm이 나오게 됩니다.

 

이전 질문 글에서 Vrms의 정량적인 값이 제시되지 않아 산란 단면적이 최대가 되는 값을 대입하셨나 싶어

전자 에너지 15ev의 산란 단면적을 모두 더하여 계산하니 2Torr 기준 0.145 mm 였습니다.

상기 계산 중 어느 부분에 오류가 있는건가요?

 

항상 큰 도움 주셔서 감사드립니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72988
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17580
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55511
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85997
604 anode sheath 질문드립니다. [1] 601
603 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 603
602 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 608
601 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 608
600 ICP 후 변색 질문 618
599 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 623
598 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 624
597 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 626
596 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 630
595 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 636
594 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 636
593 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 644
592 Collisional mean free path 문의... [1] 652
591 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 660
590 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 670
» MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 674
588 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 678
587 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 680
586 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 681
585 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 697

Boards


XE Login