Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여
2004.06.25 12:45
질문 ::
ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.
ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.
ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.
답변 ::
ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68679 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92193 |
647 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 692 |
646 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 693 |
645 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
644 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 697 |
643 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 702 |
642 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 706 |
641 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 706 |
640 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
639 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 712 |
638 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 712 |
637 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 718 |
636 | ICP 후 변색 질문 | 723 |
635 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 723 |
634 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 734 |
633 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 734 |
632 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 735 |
631 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 740 |
630 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 751 |
629 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 753 |
628 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 753 |