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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20147 |
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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307 |
IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다.
[2] | 1499 |
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306 |
glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다.
[2] | 1498 |
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305 |
plasma 형성 관계
[1] | 1497 |
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304 |
Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다.
[1] | 1490 |
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303 |
PECVD 증착에서 etching 관계
[1] | 1489 |
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302 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생
[1] | 1469 |
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301 |
Impedence 위상관련 문의..
[1] | 1463 |
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300 |
플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다.
[1] | 1462 |
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299 |
charge effect에 대해
[2] | 1459 |
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298 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
[1] | 1455 |
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297 |
RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
| 1453 |
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296 |
Plasma 발생영역에 관한 질문
[2] | 1450 |
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295 |
알고싶습니다
[1] | 1445 |
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294 |
강의를 들을 수 없는건가요?
[2] | 1443 |
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293 |
PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다.
[1] | 1440 |
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292 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해
[1] | 1438 |
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291 |
N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점
[1] | 1435 |
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290 |
Ar plasma power/time
[1] | 1435 |
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289 |
MATCHER 발열 문제
[3] | 1429 |
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288 |
ICP lower power 와 RF bias
[1] | 1424 |
