Plasma Source 플라즈마 챔버

2021.03.18 20:01

도나츠바 조회 수:1242

안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.

 

플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.

 

혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요? 

 

아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?

 

위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.

 

너무 궁긍하여 글을 올립니다.

 

답변 부탁드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20190
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
249 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1176
248 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1172
247 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1168
246 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1162
245 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1157
244 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1156
243 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1156
242 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1156
241 공정플라즈마 [1] 1145
240 Group Delay 문의드립니다. [1] 1144
239 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1141
238 자기 거울에 관하여 1139
237 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
236 전자 온도 구하기 [1] file 1130
235 wafer bias [1] 1129
234 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1120
233 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1118
232 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1117
231 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1113
230 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1113

Boards


XE Login