안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76681
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57152
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68673
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92189
747 플라즈마 온도 27771
746 DBD란 27716
745 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27605
744 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27208
743 이온과 라디칼의 농도 file 26988
742 self bias (rf 전압 강하) 26700
741 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26463
740 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26178
739 충돌단면적에 관하여 [2] 26152
738 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26094
737 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25581
736 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24982
735 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24867
734 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24846
733 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24772
732 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24745
731 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24641
730 plasma와 arc의 차이는? 24630
729 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24558
728 플라즈마가 불안정한대요.. 24512

Boards


XE Login