Chamber component Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]

2024.06.24 10:47

플라즈마plasma 조회 수:262

안녕하세요 한양대학교에서 연구중인 연구원입니다.

 

ALD 공정 진행중 plasma를 방전시키는 순간 갑자기 펌프가 꺼지면서 장비상에 Forward와 Reflect가 계속해서 잔여한다고 나오는 상태입니다.

 

Matcher와 연결된 수관의 온도가 일시적으로 높아져서 matcher에 이상이 생겨서 그럴 수 있을까요?

 

수관의 온도를 낮춘뒤에도 계속해서 Forward와 Reflect가 걸리고 있고 이 때문인지 펌프가 계속 켜지지 않고 있습니다.

 

사진과 같은 상황입니다.

 

감사합니다.

 

계속해서 잘 되다가 갑자기 이런 문제가 발생했고 공정 조건을 변경한 것은 없었습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] 79017
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21194
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58010
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69557
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94271
62 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 311
61 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 309
60 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 308
59 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 307
58 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 306
57 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 289
56 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 267
» Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 262
54 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 262
53 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 258
52 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 258
51 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 256
50 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 254
49 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 246
48 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 246
47 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 245
46 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 239
45 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 237
44 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 237
43 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 230
쓰기
태그

Boards

XE Login