Sputtering DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시
2004.06.25 16:40
질문 ::
DC MAGNETRON SPUTTER에서 T/G쪽에 (-)를 인가하는데
(+)를 인가하면 SPUTTERING이 가능한지요?????
답변 ::
Sputtering은 타겟 표면의 에너지를 인가하여 시편 표면의 원자들이
튀어나옴으로서 가능합니다. 따라서 타겟 표면에 에너지를 효율적으로
전달하기 위해서는 플라즈마 내에서 질량이 큰 입자를 사용하고
이 입자에 에너지를 효율적으로 줄 수 있어야 합니다. 이 조건을
만족하는 것은 이온으로 양전하를 띄고 있어 전기장을 인가함으로서
이온에 에너지를 줄 수 있으며 질량도 큽니다. 따라서 에너지 높은
이온을 이용하려면 타겟에 음전위를 인가해야 할 지 양전위를 인가해야
할가에 대한 답이 나옵니다. 여기서 양전위 혹은 음전위의 기준 전위는
밖에서 정하는 접지 전위가 아닌 플라즈마 전위 혹은 플라즈마 부유 전위가 기준이 됩니다. 참고하세요
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68679 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92197 |
687 | ccp-icp | 21467 |
686 | 47th American Vacuum Society International Symposium 2000 | 21425 |
685 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21381 |
684 | Breakdown에 대해 | 21357 |
683 | 플라즈마 실험 | 21344 |
682 | 플라즈마 측정기 [1] | 21331 |
681 | 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] | 21329 |
680 | Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 | 21313 |
679 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21185 |
678 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21109 |
677 | 플라즈마란? | 21054 |
676 | 대기압플라즈마 진단 | 21024 |
675 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 20958 |
674 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20900 |
673 | plasma cleanning에 관하여.... | 20831 |
672 | IEDF EQP에 대한 답변 | 20804 |
671 | 이온주입량에 대한 문의 | 20729 |
670 | 교재구입 | 20724 |
669 | Three body collision process | 20648 |
668 | Lissajous figure에 대하여.. | 20614 |