안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.


1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.


2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?


설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77763
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20733
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57649
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69150
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93417
159 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6435
158 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5983
» RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5759
156 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5299
155 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4952
154 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4330
153 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 4148
152 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4111
151 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3947
150 Descum 관련 문의 사항. [1] 3842
149 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3631
148 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3588
147 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3581
146 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3547
145 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3543
144 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3462
143 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3313
142 CVD 공정에서의 self bias [1] 3309
141 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3172
140 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2889

Boards


XE Login