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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69652
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94499
69 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법] [3] 1400
68 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1385
67 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1356
66 RF Generator 주파주에 따른 Matcher Vms 변화 [주파수에 따른 임피던스 변화] [1] 1343
65 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1339
64 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [국부 전기장 형성 및 reflect power] [2] 1337
63 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계] [1] 1321
62 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1261
61 공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식] [1] 1243
60 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1165
59 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1141
58 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1131
57 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1116
56 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1106
55 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1097
54 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1034
53 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 990
52 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 962
51 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 952
50 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 943

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