안녕하세요. 교수님.

현재 반도체 장비업체에서 Dry etch관련 공정 업무를 수행하고있는 연구원입니다.

평소 플라즈마에 대해 공부하며 다른 사람의 질의응답들을 참고하곤 했었는데, 처음 질문글을 남기게 되네요.

플라즈마 관련 공부 및 실험을 진행하다 궁금한 사항이 있어, 질의를 드립니다.


1. 플라즈마를 방전시켰을때, 발생하는 arcing현상이 발생하는 이유가 뭔지 궁금합니다.

   절연 물질이 절연파괴가 되면서 해당 부분으로 전하가 축적되어 전하차이에 의해 발생하는건가요?

   arcing현상을 줄이기위한 방법들은 어떤 것들이 있을까요? 절연층을 두껍게한다거나, Ground 접지를 이용한 방법들 외 다른 방법들도

   있는지요?


2. 추가로 비슷하게 Local plasma? 플라즈마 방전시 안정화되지 못하고 깜빡거리는 현상역시 발생하는 이유에 대해 궁금합니다.

    사용하고 있는 parameter는 Pressure,  gas, Power 등인데, 각 parameter들이 플라즈마 방전이 발생하기에 부족하거나 불안정하여

    발생되는 현상인가요?


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
95 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] update 4365
94 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3968
93 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3617
92 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3499
91 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3379
90 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3315
89 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2675
88 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2670
87 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2617
86 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
85 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2346
84 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2289
83 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2280
82 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2258
81 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2251
80 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2177
79 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1947
78 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1920
77 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1904
76 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1889

Boards


XE Login