Others N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]

2022.05.12 00:29

윤태화 조회 수:1664

안녕하세요. 반도체회사에서  PECVD 장비를 하고있는 윤태화입니다.

 

GAS 종류에 따른 Plamsa 진행시 차이점이 있는지 궁금합니다.

 

1. N2 Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

2. N2O Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

3. N2 / N2O  두 Gas의 Plasma 차이점 

4. N2 및 N2O GAS 사용으로 Plasma 4~5분 노출 시 챔버 내부 변색 가능성? 한두달 뒤 변색이 될 가능성..

 

위 4개 질문드립니다. 

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79549
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21331
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58124
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69691
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94589
89 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 1976
88 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 1972
87 가입인사드립니다. [1] 1929
86 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 1875
85 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1755
84 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1750
83 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1750
82 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1713
81 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1706
80 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1670
» N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1664
78 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1651
77 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1637
76 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1562
75 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1547
74 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1498
73 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응] [1] file 1462
72 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1452
71 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1443
70 수방전 플라즈마 살균 관련.. 문의 드립니다. [플라즈마 기술 센터 문의] [1] 1440
쓰기
태그

Boards

XE Login