안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.

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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48774
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 52773
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 60587
21 플라즈마 온도 24134
20 고온플라즈마와 저온플라즈마 21779
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18 플라즈마내의 전자 속도 [1] 21319
17 플라즈마 진동수와 전자온도 19104
16 등온플라즈마와 비등온플라즈마 18588
» remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 18153
14 저온 플라즈마에 관한 질문 17973
13 플라즈마를 손으로 만질 수는 없나요?? 17855
12 플라즈마 온도중 Tr의 의미 17177
11 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] 16777
10 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 16716
9 고온플라즈마와 저온플라즈마 16597
8 산업용 플라즈마의 특성 14733
7 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 7294
6 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 3153
5 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 1966
4 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 1163
3 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1025
2 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 930

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