안녕하세요. 최근에 원자층식각(Atomic Layer Etching) 또는 ALD시 remote plasma란 용어가 자주 나오는데요, 일반적으로 이야기 하는 Plasma 와 어떤 차이가 있는 건가요? 생성방법? 이온 밀도? 등등 차이점에 대해 설명좀 부탁드립니다. 항상 감사드립니다.

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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48518
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49115
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17 플라즈마 진동수와 전자온도 18908
16 등온플라즈마와 비등온플라즈마 18561
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» remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 17588
12 플라즈마 온도중 Tr의 의미 17043
11 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 16601
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7 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 7265
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4 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 832
3 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 784
2 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 774

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