안녕하세요, 플라즈마에 대해서 공부 중인 학생입니다.

다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각 장치에서 바이어스 전극에 저주파 전력을 인가함으로써, 이온 입사에너지를 증대된다고 배웠는데요. 어떠한 이유로 저주파 전력을 인가시, 이온 입사 에너지가 증대되는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

그리고, 다중 주파수를 이용한 ccp 타입의 플라즈마 식각장치에서 전극에 고주파 전력을 인가함으로써, 플라즈마 밀도에 정상파 효과가 발생한다고 해당 랩의 논문에서 읽었는데요. 어떠한 이유로 정상파 효과가 발생하고, 고주파 전력을 100MHz --> 60MHz로 변경시 정상파 효과가 줄어드는지 궁금해서 질문을 남기게 되었습니다.

답변을 주시면, 공부하는데 많은 도움이 될 것같습니다.  답변을 부탁드립니다.(- -)(_ _)(- -)

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48528
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 49177
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 54867
21 플라즈마 온도 23480
20 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 21520
19 플라즈마내의 전자 속도 [1] 21252
18 고온플라즈마와 저온플라즈마 21110
17 플라즈마 진동수와 전자온도 18916
16 등온플라즈마와 비등온플라즈마 18561
15 저온 플라즈마에 관한 질문 17945
14 플라즈마를 손으로 만질 수는 없나요?? 17783
13 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] 17607
12 플라즈마 온도중 Tr의 의미 17052
11 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] 16605
10 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] 16535
9 고온플라즈마와 저온플라즈마 16500
8 산업용 플라즈마의 특성 14653
7 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 7265
6 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 1921
5 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 1618
4 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 834
» 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 787
2 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 777

Boards


XE Login