CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 48528 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 49177 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 54867 |
| 11 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 22674 |
| 10 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 21927 |
| 9 | CCP/ICP , E/H mode | 19643 |
| 8 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18618 |
| 7 | capacitively/inductively coupled plasma | 16914 |
| 6 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 15872 |
| » | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 2220 |
| 4 | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 1507 |
| 3 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 742 |
| 2 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 264 |
| 1 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 163 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.