안녕하세요. 저는 반도체 회사에 설비 엔지니어로 일하고 있습니다.

기계공학 열전달 주전공으로 석사를 졸업했는데 설비의 플라즈마와 전자공학 지식에 전혀 없어 고견 부탁드립니다..

PLASMA MATCHING에 관해 궁금한 점이 있습니다.

일단 기본적으로 임피던스의 허수부 즉 리액턴스를 0로 가져갈 수 있도록 하는 것으로 알고 있었는데,

여기 글들을 보면서 뿐만 아니라 전원의 13.56MHZ 50옴과 맞게 뒤에 챔버 부분을 50옴으로 저항까지 맞춰주는 것으로 알게 되었내요..

1. LOAD의 경우 리액턴스와 레지스턴스 동시에 작용하나, 레지스턴스 영향력이 강해 실수부 저항을 매칭해주는 것으로 설명을 보았어요

궁금한 점이 실제 MACHING TREND를 보면 LOAD / TUNE 포지션이 반대 방향으로 움직이며 동일 방향으로 움직이는 경우를 못봤습니다.

이는 LOAD 캐패시터와 TUNE 캐패시터가 임피던스 계산 시 반대? (TUNE이 역수로 작용) TUNE이 상승하면 반대로 LOAD는 내려가야

리액턴스가 0이 된다고 생각했는데... 1. 실수(레지스턴스)에 어떻게 LOAD가 작용하는 것인지가 궁금합니다.

1) CH 임피던스가 50보다 낮을때... 2) 50보다 높을 때 어떻게 LOAD가 이 저항값을 맞추는지 궁금해요..

또한, 이상 TREND 관찰 시 순간적으로 LOAD TUNE이 같은 방향으로 움직이는 것을 보았는데, 이 경우 MATCHING 알고리즘 상 순간적으로

MATCHING 못하고 발산?한 것인지 궁금합니다.


답변 주시면 정말 감사하겠습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4940
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16309
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51253
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63772
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83583
48 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 1956
47 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1890
46 Load position 관련 질문 드립니다. [2] 1881
45 Si Wafer Broken [2] 1849
44 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 1803
43 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1764
42 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1731
41 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 1723
» Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1697
39 chamber impedance [1] 1677
38 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1643
37 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1607
36 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1597
35 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1545
34 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1461
33 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1253
32 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1201
31 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1160
30 MATCHER 발열 문제 [3] 1141
29 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1127

Boards


XE Login