Matcher RF 반사파와 이물과의 관계

2021.02.25 14:33

이재학 조회 수:1099

안녕하십니까 교수님

디스플레이 업체에서 현재 CVD설비 공정분석을 담당하고 있는 이재학입니다.

 

Chamber별로 RF Reflect의 수준이 상이하며, 검사기에 검출되는 불량수와 양의 관계로 확인되고 있습니다.

 

 

1. RF Reflect 발생으로 인해 내부 이물이 과생성되는 건지

 

2. 내부 이물로 의해 RF Reflect가 점점 커지는지 의문입니다.

 

 

1의 경우 Load/Tune을 통해 내부 이물을 제어하는 평가를 진행하려하고

 

2의 경우 Parts 교체와 재질변경을 통해 RF Reflect를 낮추는 방향으로 진행하려합니다.

 

 

교수님의 견해로는 어느방향에 유의차가 있을지 문의드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
42 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47761
41 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35819
40 matching box에 관한 질문 [1] 29651
39 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27589
38 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23317
37 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22571
36 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21181
35 플라즈마 matching 20217
34 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19203
33 Virtual Matchng 16851
32 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10223
31 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9816
30 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8035
29 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7061
28 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6249
27 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5783
26 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5019
25 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3857
24 임피던스 매칭회로 [1] file 2789
23 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2469

Boards


XE Login