ESC 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.

2011.04.05 11:28

김재성 조회 수:22873 추천:62

안녕하세요. 반도체 장비회사에 재직중인 직장인 입니다.

O2 plasma 관련 글을 검색하다가, O2 plasma 에는 음이온이 다수 존재하여 Matching 조건이 다른 Plasma 와 조금

다를 수 있다는 내용을 보았는데요..


현재 O2 Plasma 를 사용하는 Ashing 공정에서 ESC 를 인가하는 조건과 인가하지 않는 조건 간에 Matching trend 가 매우

다른 현상이 발견되고 있습니다. ESC 에 인가되는 + DC Power 와 음이온 발생 분위기와 어떠한 상관 관계가 있는지 궁금

합니다. 실제로 ESC 에 인가되는 +DC 전압이 Chamber 내부의 음이온 발생 정도와 관계가 있을 수 있는지요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75741
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19425
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56653
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67979
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90172
22 esc란? 27964
21 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25898
» 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22873
19 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22157
18 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19782
17 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 16782
16 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 14283
15 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8260
14 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7475
13 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6379
12 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5293
11 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4186
10 ESC Cooling gas 관련 [1] 3373
9 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3088
8 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2673
7 Si Wafer Broken [2] 2325
6 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1800
5 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1723
4 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1487
3 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1281
쓰기
태그

Boards

XE Login