안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
102 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3188
» M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3144
100 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3043
99 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2933
98 Plasma etcher particle 원인 [1] 2923
97 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2879
96 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2849
95 PR wafer seasoning [1] 2694
94 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2662
93 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2602
92 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2571
91 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2387
90 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
89 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2295
88 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2294
87 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2247
86 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2243
85 etching에 관한 질문입니다. [1] 2243
84 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2228
83 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2038

Boards


XE Login