Others 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마
2004.06.19 16:44
플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마에 의해 발생하는 잡음 발생이 심각하다고 하셨습니다. 이를 제거하기 위해 전원부를 따로 쓰고 있고 차폐막도 설치했음에도 심호잡음이 계속 측정되고 있다고 하셨습니다.
일단 아크 플라즈마에서는 순간적인 아크 전류의 크기가 커서 발생 잡음은 매우 크고 이의 제거는 매우 어렵습니다. 일단 발생하는 잡음 신호의 주파수와 크기를 측정하실 필요가 있습니다. 이를 참고로 가장 염두에 두셔야 할 것은 차폐막과 전원부의 접지상태를 확인하시기 바랍니다. 잡음은 직류가 아진 고주파 교류신호임을 유의하여 접지 상태를 점검하고 차폐막의 형태나 설치 위치도 중요하니 설치 위치등을 다시 고려하시기 바랍니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75427 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19163 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56479 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67557 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89368 |
72 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 1748 |
71 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 1710 |
70 | RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] | 1683 |
69 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1647 |
68 | 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] | 1590 |
67 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1584 |
66 | CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] | 1453 |
65 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1432 |
64 | PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] | 1401 |
63 | Ar plasma power/time [1] | 1355 |
62 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
![]() | 1346 |
61 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 1323 |
60 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1306 |
59 | PECVD 증착에서 etching 관계 [1] | 1277 |
58 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1212 |
57 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1190 |
56 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1185 |
55 | Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] | 1121 |
54 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1093 |
53 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1091 |