안녕하십니까, 서울대학교 황농문 교수님 연구실 석사과정 김수종입니다.

제가 하고 싶은 것을 대략적으로 설명드리면, nano-size dust들의 크기를 조절에서 박막 증착의 물성을 확인하려고 하는데, 이 nano particle을 어떤 방식으로 조절할까 고민하던 중 흥미있는 논문을 읽게 되었습니다.

제가 논문을 이해한바로는, DC probe와 Current probe와 같은 간단한 장비를 이용해서, third Harmonics와 fundamental amplitude를 읽어들여서, nano particle의 nucleation, accumulation, coagulation, 세 단계를 실시간으로 잡아낼 수가 있다고 합니다.  이를 이용해서 nano particle 의 size를 조절할 수 있다는, 제가 꼭 필요한 부분에 관한 내용입니다.

사실, ICP 장비를 다루고는 있지만, 플라즈마 및 장비에 대해서 지식이 부족해서 장비 업체에 연락을 먼저 해 봤지만 잘 모르겠다고 답변을 받았고, 저희 연구실과 같이 공동 연구를 하는 쪽에도 여쭤봤지만 확답은 잘 못 받았습니다.

이미 그 논문을 쓴 해당 연구실에 관련한 궁금증에 대해서 질문을 메일로 보냈습니다.

하지만, 혹시 여기에서도 좋은 조언을 얻을 수 있을까 하는 희망을 가지고 질문 올립니다.


혹시 필요하실까봐, 제가 읽은 짧은 논문 하나와, 그 연구실에서 나온 것으로 생각된 document를 보내드립니다.

Document에서 제가 관심 있어하는 부분은 50쪽 Figure II.1과 59쪽 II.3.b Vdc and 3H probes에 관한 내용입니다.

참고할 만한 작은 조언이라도 부탁드립니다.


010-4188-1840

aprilbest@snu.ac.kr



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20179
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
82 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2009
81 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1984
80 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1981
79 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1934
78 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1863
77 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1845
76 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1793
75 터보펌프 에러관련 [1] 1756
74 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1729
73 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1660
72 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1498
71 Ar plasma power/time [1] 1436
70 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1425
69 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1408
68 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1385
67 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1376
66 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1374
65 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1307
64 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1294
63 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1243

Boards


XE Login