안녕하세요

반도체쪽에서 일하는 직장인 입니다.

다름이 아니라 CVD공정 양산 설비 Depo시 간헐적으로  Plasma On시 초기 2초간 Reflect가 발생하더라구요...

이와 관련하여 해당 Chamber Issue로는  Plasma On시 Load 값 Issue가 있어 Matcher교체 하였구요. 

이 후 동일 문제로 RF Filter 교체 하였고 접지Cable Resetting 하였고 Heater 교체도 하였습니다.

이 후에 초기 Reflect가 발생 하였다는 것을 알게 되어 초기 Reflect 관련 문제를 해결하려고 하는데

아직 정확한 원인을 찾지 못하여 이렇게 많은 분들께 조언 구합니다.

실제 Fab에서 양산 설비이기 때문에 Gas 유량, 압력, 동축 Cable 길이 등은 다른 양산 설비와 동일 하구요. (실제 확인도 하였습니다.)

Generator에서 인가되는 Power도 문제 없는 것을 확인하였습니다.

추가로 어떤 부분을 확인하면 도움이 될 지 많은 분들의 조언 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
82 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1961
81 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1946
80 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1899
79 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1879
78 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1829
77 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1784
76 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1771
75 터보펌프 에러관련 [1] 1737
74 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1697
73 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1637
72 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1471
71 Ar plasma power/time [1] 1429
» Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1417
69 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1399
68 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1365
67 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1352
66 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1292
65 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1287
64 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1268
63 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234

Boards


XE Login