Others CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여

2004.06.25 12:45

관리자 조회 수:19152 추천:286

질문 ::

ICP 장비들을 공부하다 보니까.
일부 특허등에서 전류를 인가하는 coil 이외에 자석을 챔버 주위에 둘르는 것을 보곤 합니다.
이때 자석들이 무슨 기능을 하는지 알고 싶습니다.

ICP 의 경우 코일에 인가되는 전류에 의한 자기장이 챔버 내부에 형성되고 그에 따른 유도 전기장에 의하여 플라즈마를 발생시키게 되는데, 이때 자석이 놓으므로 해서 자기장에 어떤 효과를 주게 되는 지 알고 싶습니다.

ps. ICP의 경우 코일에 의한 자기장이 챔버중심까지 침투하는 건가요? 아니면 skin depth 이외에는 침투 하지 못하는 건지 알고 싶습니다.
만약 그렇다면 13.56MHz를 사용하는 일반적인 ICP 장비의 경우 skin depth가 어느정도 인지 알고 싶습니다.

답변 ::

ICP에 관한 내용은 이곳에 수차례 설명되어 있으니 꼭 참고하시기 바랍니다.
또한 자기장의 역할에 대해서도 이미 언급되어 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5610
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16899
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51349
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64213
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84233
24 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 40415
23 Ground에 대하여 37969
22 Arcing [1] 27377
21 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 25933
20 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25424
19 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24534
18 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24049
17 Peak RF Voltage의 의미 22189
16 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 20908
15 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20053
14 석영이 사용되는 이유? [1] 19609
13 MFC 19188
» CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19152
11 최적의 펌프는? 18412
10 Faraday shielding & Screening effect 18196
9 Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. 17055
8 반응기의 면적에 대한 질문 12704
7 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9328
6 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1655
5 고진공 만드는방법. [1] 811

Boards


XE Login