Matcher Impedence 위상관련 문의..
2017.06.30 04:39
안녕하세요. 전에도 몇번 질문드렸었습니다만,, 반도체 관련회사에서 근무하고 있습니다.
RF (ICP)장비를 다루고 있는데 impedence 위상관련해서 문의 좀 드리려고 합니다.
impedence 매칭은 저항과 위상으로 조정하데..
공정 parameter (Ar pressure , AC power 등)의 변화로 위상이 변화할수 있을까요?
변화된다면 어떤 이유로 변화되는지 조금 자세하게 설명을 듣고 싶습니다..
그리고 정말 죄송한데 smith chart program 을 사용하고 싶은데..도움 받을 site가 있을까요?
검색해서 찾아봐도 알수 없는 site로 이동이 되서...찾기가 어렵습니다만..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76540 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91696 |
101 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22229 |
100 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21183 |
99 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21098 |
98 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20357 |
97 | 플라즈마 matching | 20218 |
96 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20000 |
95 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19830 |
94 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19336 |
93 | MFC | 19318 |
92 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19204 |
91 | 최적의 펌프는? | 18530 |
90 | Faraday shielding & Screening effect | 18343 |
89 | electrode gap | 17934 |
88 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17316 |
87 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16898 |
86 | Virtual Matchng | 16851 |
85 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14686 |
84 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13198 |
83 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
82 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10225 |
우리가 하나의 회로로 플라즈마를 놓는다면 capacitance (쉬스), diode (이온 전류), 및 저항 ( 총돌에 의한 에너지 전달: Ohmic heating 과 Stochastic heating) 값, 그리고 inductance (충돌로 인한 플라즈마 전류 위상차이)로 표현이 가능할 것입니다. 이를 종합해서 플라즈마 임피던스라 하고, 특히 RF 에 영향을 미치는 cap/inductance 항이 플라즈마 밀도와 온도 그리고, 충돌 함수이므로, 운전 전력과 압력에 따라서 matching position 이 바뀔 수 밖에 없겠습니다. 때로 연구자들은 회로 모델이라 부르는 해석 방법을 연구하기 합니다.