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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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535 |
플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [플라즈마 밀도와 중성 가스의 균일도]
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534 |
플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown]
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533 |
고온 플라즈마 관련
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532 |
정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상]
[1] | 8176 |
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531 |
MFP에 대해서.. [Collisional cross section]
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530 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG]
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플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의]
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CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전]
[1] | 7972 |
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527 |
ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성]
[1] | 7612 |
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526 |
O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응]
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코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient]
[1] | 7186 |
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SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport]
[1] | 7150 |
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저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성]
[1] | 7134 |
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RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정]
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O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154
[1] | 7016 |
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
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Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher]
[2] | 6892 |
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플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전]
[1] | 6829 |
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O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
[1] | 6814 |
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안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리]
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저온 플라즈마의 단점이라고 하셨는데 저온 플라즈마를 어디에 활용할 때의 단점이라는 뜻인지,
또 저온이라는 것이 무엇 대비 얼마나 온도가 낮은 플라즈마를 뜻하는 것인지 명확한 질문 부탁합니다.