60 MHz pulse generator와 60 MHz matching box를 구입하여 pulse plasma 특성들 (EEDF, Vp, Te, etc..)을 Langmuir probe를 이용해 측정하려 합니다.  그런데 pulse plasma 측정 방법에 대해 아는 부분이 없습니다.  일반적인 cw plasma 측정과 달리 pulse plasma는 TTL signal이 필요하다고 하는데 TTL signal이 무엇인지 궁금합니다.
그리고 pulse 주기에 따라 이를 측정하기 위한 장치들이 필요하다면 무엇이 필요한지 알고 싶습니다.
time-resolved, time-dependent plasma의 차이도 궁금하구요...

저희 Langmuir probe는 Hiden 社이며 EPison controller를 이용하고 있습니다.

한번에 너무 많은 것을 물어봐서 죄송합니다만, 자세히 알고 싶습니다.

부탁드립니다.

(혹시 관련 manual 자료가 있으면 받을 수 있을까요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73034
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17630
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55517
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65700
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86031
646 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23440
645 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23386
644 self Bias voltage 23300
643 plasma와 arc의 차이는? 23281
642 Arcing 23239
641 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23144
640 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23135
639 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23078
638 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23071
637 DC glow discharge 22943
636 No. of antenna coil turns for ICP 22846
635 고온플라즈마와 저온플라즈마 22806
634 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22791
633 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22770
632 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22693
631 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22488
630 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22477
629 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22447
» pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22408
627 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22380

Boards


XE Login