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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66859
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88334
19 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 257
18 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 256
17 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 245
16 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 222
15 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 200
14 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 197
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12 plasma 공정 중 색변화 [1] 178
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10 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 152
9 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 135
8 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 126
7 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 109
6 corona model에 대한 질문입니다. [1] 91
5 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 89
4 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 55
3 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 53
2 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 53
1 Compressive한 Wafer에 대한 질문 21
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