Others 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서...
2009.11.28 17:19
안녕하십니까...
일본에서 석사과정을 밟고있는 학생입니다.
제가 이분야가 아니라서...서적도 찾아보고 인터넷을 찾아봐도...비평형이 생기는 이유에 대해서 언급된것을
찾을 수가 없습니다. 그래서 도움 요청합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76714 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68695 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
708 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22762 |
707 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22694 |
706 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22618 |
705 | Peak RF Voltage의 의미 | 22603 |
704 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22579 |
703 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22540 |
702 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22239 |
701 | 플라즈마의 발생과 ICP | 22133 |
700 | remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [1] | 22116 |
699 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22113 |
698 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22091 |
697 | 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 | 21996 |
696 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21943 |
695 | 플라즈마내의 전자 속도 [1] | 21894 |
694 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21753 |
693 | manetically enhanced plasmas | 21657 |
692 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21572 |
691 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21540 |
690 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21513 |
689 | F/S (Faraday Shield) | 21497 |