Others ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다.
2016.10.29 23:40
안녕하세요.
s전자에 근무하는 송용재라고 합니다.
Film depo공정을 담당하고 있습니다.
한가지 의문의 들고 여기저기 찾아봐도 속시원한부분이 해결되지 않아 글을 남깁니다..
RF chamber (ICP type) Belljar에서의 arcing은 왜 발생하는것일까요?
arcing과 RF2 Reflect power(plasma power)와의 연관성은 어떻게 되나요?
발생 메커니즘과 RF2 Reflect power 상관관계에 대해 궁금합니다.
답변 기다리겠습니다.
감사합니다. 수고하세요.~
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68672 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92184 |
78 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1896 |
77 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
76 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1805 |
75 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1730 |
74 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1666 |
73 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1658 |
72 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1604 |
71 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1594 |
70 | plasma 형성 관계 [1] | 1501 |
69 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1476 |
68 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1443 |
67 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1438 |
66 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1429 |
65 | dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] | 1402 |
64 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1393 |
63 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1347 |
62 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1330 |
61 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1311 |
» | ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] | 1268 |
59 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1256 |