Plasma Source RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화.
2018.11.20 16:00
안녕하세요 저는 RF Plasma 관련 직종에 근무하는 직장인 입니다.
RF generator에서 Frequency tuning (주파수 가변) 기능을 사용하고 있는데, 주파수 변화에 따라서 Matcher에서 읽혀지는 Vrms 값이 심하게 변화하는것을 확인하였습니다.
Frequency 높아질수록 (13.56Mhz 기준) Vrms 높아짐 / Irms 큰변화 없음 / Phase 높아 지는데, 왜 Frequency 변화에 따라 Vrms와 Phase가 변하고, Irms는 큰 변화가 없는 것일까요?
주파수에 따른 Vrms, Irms, Phase의 연관성을 알수 있을까요.
조언 부탁드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57155 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68675 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
| 78 | 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] | 1897 |
| 77 | 가입인사드립니다. [1] | 1880 |
| 76 | N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] | 1805 |
| 75 | ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] | 1730 |
| 74 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1666 |
| 73 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1660 |
| 72 | CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] | 1604 |
| 71 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1594 |
| 70 | plasma 형성 관계 [1] | 1502 |
| 69 | 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] | 1477 |
| 68 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1443 |
| 67 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1438 |
| 66 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1429 |
| 65 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1]  | 1402 |
| 64 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1393 |
| 63 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1347 |
| 62 | DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] | 1330 |
| 61 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1311 |
| 60 | ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] | 1269 |
| 59 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1257 |