Remote Plasma RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
2022.09.19 21:05
RPSC(Remote Plasma Source Cleaning) 시 Pressure, Throttle Valve Position 관계에 대해 질문드립니다.
■ 목적
: PECVD Chamber를 주기적으로 SiNx 박막을 RPSC(NF3 사용)로 세정을 하는데, 세정 효율을 증가(=세정 시간 단축)시키고자 합니다.
■ 현상
: 저희 설비는 ① 압력을 고정(=Throttle Valve가 움직임)시키거나 ② Throttle Valve를 고정(=압력 변함)시키는 두 가지 방법 중 하나를 택합니다. 기존에는 Throttle Valve를 절반 정도 오픈되게 고정하고 RPSC를 진행합니다. 이때, RPSC 시간에 따른 압력 곡선은 하기와 같습니다.
반응식 : NF3 + SiNx → SiF4
RPSC 초기에는 SiNx + NF3이 폭발적으로 일어나는 초기에는 압력이 증가합니다. 이는 NF3와 SiNx 간 반응으로 SiF4가 형성되는 화학반응이 부피가 팽창하는 것으로 보입니다.
상기 곡선에서 Throttle Valve는 상시 Half Open입니다.
다음은 세정 효율을 증가(=세정 시간 단축)시키기 위한 세 가지 방안입니다.
■ 세정 효율 개선 방안(세정 시간 단축)
① RPSC 초기 Throttle Valve Full Open → RPSC 후기 Throttle Valve Half Open
RPSC 초기엔 폭발적인 반응으로 SiF4가 형성되는 데, 압력이 높아진다는 건 생성물(SiF4) 농도가 높음을 의미한다. 따라서 반응 초기에 Throttle Valve를 Full Open하여 SiF4를 배출시키면 NF3에 의한 세정 작용이 활발해질 것이다.
② RPSC 초기 Throttle Valve Half Open → RPSC 후기 Throttle Valve Full Open
RPSC 초기부터 Throttle Valve를 Full Open하면 생성물(SiF4)가 빠르게 제거되겠지만, 반응물(NF3)의 챔버 내 잔류시간이 줄어드므로 되려 효율이 낮아질 수 있다. 다만 압력이 Peak가 되는 시점에서 생성물(SiF4)의 농도가 높은 건 좋지 않으므로, RPSC 후기부터 Throttle Valve를 Full Open하여 RPSC 후기의 반응물(NF3) 농도를 높여 세정 효율을 높인다.
③ Throttle Valve를 고정하지 않고 압력을 고정
상기처럼 세 가지 방안 중 고민하고 있습니다. 세 가지 방안 중에서 적절해보이는 방안이나 그 밖에 제안해주실 수 있는 방안이 있으시면 조언 부탁드립니다.
항상 자세한 답변에 감사드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
39 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 812 |
38 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
37 | DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] | 800 |
36 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 800 |
35 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 789 |
34 | 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] | 784 |
33 | 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] | 760 |
32 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 756 |
31 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 714 |
30 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 680 |
29 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 678 |
28 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 618 |
27 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 609 |
26 | N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] | 600 |
25 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 592 |
24 | 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] | 576 |
23 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 575 |
22 | 핵융합 질문 [1] | 567 |
21 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 550 |
20 | 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] | 516 |