Sheath 전쉬스에 대한 간단한 질문
2019.10.26 22:26
안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.
다름이 아니라 전쉬스 부분에서 전자밀도와 이온 밀도가 같다고 할 수 있는 근거가 무엇입니까? 또한 전쉬스 공간의 길이는 디바이 길이보다 훨씬 커야하는데 전쉬스 공간의 길이의 제한범위가 있는지요?
cf)
플라즈마 기초부부넹서 EXB 표류 운동에서 전기장 대신 중력이 전기장 방향으로 작용한다면 전자와 이온의 표류운동은 어떻게 되는 궁금합니다.
항상 성심껏 답변해주셔서 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68679 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92203 |
35 | Self Bias | 36381 |
34 | sheath와 debye shielding에 관하여 | 27806 |
33 | self bias (rf 전압 강하) | 26701 |
32 | self Bias voltage | 24026 |
31 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23970 |
30 | 플라즈마 쉬스 | 23933 |
29 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22851 |
28 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21381 |
27 | RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] | 20958 |
26 | 이온주입량에 대한 문의 | 20729 |
25 | self bias [1] | 19464 |
24 | ICP에 대하여 | 18196 |
23 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12752 |
22 | DC bias (Self bias) [3] | 11250 |
21 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9515 |
20 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8976 |
19 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8917 |
18 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4793 |
17 | plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] | 3366 |
16 | CVD 공정에서의 self bias [1] | 3089 |