ICP 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
2020.09.08 18:07
교수님 안녕하세요, 플라즈마 관련 공부를 하고 있는 취업준비생입니다.
ICP 장비를 공부하다가 궁금한점이 생겨서 질문 올립니다.
1. ICP장비는 소스파워로 이온 밀도를 조절하고, 바이어스 파어로 이온 에너지를 조절한다고 하는데, 소스파워는 이해가 가는데
바이어스 파워로 이온 에너지를 조절한다는 메커니즘이 이해가 안갑니다. 블로킹 커패시터를 달아서 한다고 하는데, 이해가 안가네요..
2. capacitive coupling이라는 현상으로 인해 벽이 스퍼터 되는 문제점이 발생한다고 하는데, 이 벽이 스퍼터 된다는게
플라즈마가 균일하지 않게 된다는 말일까요?
3. 이 질문은 PE CVD 관련 질문인데요, PECVD를 진행할 때 전극 면적비를 같게 하는 이유가 라디칼을 이용한 증착 방법이기 때문에
이온의 영향을 줄이기 위함이다. 이렇게 생각했는데, 제 생각의 논리가 맞을지 궁금합니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68679 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92197 |
783 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144417 |
782 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134441 |
781 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95596 |
780 | Plasma source type | 79646 |
779 | Silent Discharge | 64557 |
778 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54875 |
777 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47801 |
776 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43691 |
775 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41220 |
774 | 대기압 플라즈마 | 40703 |
773 | Ground에 대하여 | 39384 |
772 | RF frequency와 RF power 구분 | 39060 |
771 | Self Bias | 36381 |
770 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35892 |
769 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34943 |
768 | PEALD관련 질문 [1] | 32611 |