Remote Plasma RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
2019.06.26 09:28
안녕하세요.
반도체 사업에 종사중이며, PECVD장비를 다루고 있습니다.
SiN, SiO Film 을 증착시, NF3 가스로 RPG를 사용해 Cleaning을 진행합니다.
몇몇 글을 보며, in-situ plasma를 동시에 사용하여, N2O / O2를 공급하면, Cleaning 효율이 좋다고 하는 것 같습니다.
다음에 대한 질문을 드리고 싶습니다.
1. Film 증착 시 SiH4 및 H2 Gas를 사용하는데, Cleaning 시 O2 Gas 를 사용해도 안전상 문제가 없을까요?
2. RPG를 이용한 Cleaning Process 이후, 잔여 Fluorine Gas 는 HF 형태로 잔존하고 있는 걸까요?
3. 2번에서 Cleaning Process 이후 잔여 Fluorine Gas 를 제거하는 방법이 따로 있을까요?
작은 경험이나마, Low Vacuum 에서 High Vacuum으로 전환 시 Plasma 방전 유무에 따라 Pumping Time이 확연히 차이나기는 했습니다.
감사합니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20184 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
529 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13201 |
528 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13056 |
527 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
526 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12757 |
525 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12483 |
524 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12355 |
523 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11448 |
522 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11413 |
521 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11320 |
520 | DC bias (Self bias) [3] | 11260 |
519 | RGA에 대해서 | 10542 |
518 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10378 |
517 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10354 |
516 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10348 |
515 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10298 |
514 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9962 |
513 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9849 |
512 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9842 |
511 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9665 |
510 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9636 |