Remote Plasma surface wave plasma 에 대해서

2010.04.10 19:26

이태효 조회 수:18525 추천:127

안녕하세요.. 저는 이태효라고 합니다.

플라즈마에 대해서 이것저것 공부하던 중에 high density plasma 방법중에 마이크로 웨이브를 이용한 방법이 있는 것을 보았습니다.

보통 CCP나 ICP 또는 Helicon plasma 그리고 ECR에 대해서는 어느정도 방법이 나와있지만 마이크로파를 이용한 surface wave plasma에 대해서는 자료가 거의 없더군요....

해서 게시판에 매번 눈팅만 하다가 질문을 올리게 됐습니다.

1. 첫째로 마이크로파를 이용한 플라즈마 방식이 있는데 이것에 대한 플라즈마를 발생시키는 원리에 대해서 알고 싶습니다.
- 플라즈마 일렉트로닉스란 책도 참고로 보았지만 잘 이해가 안가네요...;;;;

2. 두번째로 마이크로파를 이용한 플라즈마 방식은 전자온도가 낮다고 들었는데요... 이유가 어떤건지도 궁금합니다.
- ECR 도 마이크로 웨이브를 이용하는데 이건 일반적인 ICP보다 전자온도가 높은것으로 알고 있는데요.. SWP에 대한 원리를 몰라서 그런지 왜 전자온도가 낮은지 아무리 생각해도 잘 모르겠네요.

매번 게시판을 잘 이용하고 있고 많은 도움을 받고 있습니다.
그럼 하시는 연구 잘되기를 바라구요... 답변 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
263 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1294
262 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1289
261 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1289
260 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1287
259 플라즈마 기초입니다 [1] 1279
258 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1267
257 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1267
256 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1266
255 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1249
254 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
253 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1232
252 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1216
251 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1211
250 플라즈마 챔버 [2] 1205
249 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1204
248 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193
247 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1176
246 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1173
245 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159
244 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1146

Boards


XE Login