DC glow discharge 플라즈마 관련 기초지식
2019.09.16 00:41
안녕하십니까 플라즈마 입문단계를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.
다름이 아니라 공부를 하는 중에 플라즈마 소스 부분에 직류 글로우 방전에서 r-process 부분에서 2차 방출이 일어나는데
여기서 이차전자가 이온화를 잘시키는 것으로 알고 있습니다. 하지만 이온은 그에 비해 잘 시키지 못한것 같습니다
정리하자면 플라즈마에서 이온은 전자에 비해 중성종을 이온화시키기 어려운 이유가 무엇일까요?
기본적인 내용인데 많이 부족해서 모르겠습니다.
부탁드립니다!! 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76541 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20077 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
132 | 플라즈마 압력에 대하여 [1] | 2716 |
131 | 질문있습니다. [1] | 2545 |
130 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2425 |
129 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 2342 |
128 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2318 |
127 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2275 |
126 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2226 |
125 | 플라즈마볼 제작시 [1] | 2214 |
124 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2164 |
123 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2117 |
» | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2092 |
121 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2089 |
120 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 1950 |
119 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 1947 |
118 | ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] | 1944 |
117 | 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] | 1925 |
116 | 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] | 1878 |
115 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! | 1855 |
114 | 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] | 1780 |
113 | 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] | 1734 |