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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[329]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석]
[1] | 2186 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2110 |
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ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 2075 |
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90 |
가입인사드립니다.
[1] | 2040 |
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 2004 |
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PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 1987 |
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87 |
plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
[1] | 1984 |
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ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 1967 |
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85 |
N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 1964 |
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
[1] | 1947 |
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Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance]
[1] | 1941 |
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82 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1900 |
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 1884 |
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CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1872 |
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ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
[1] | 1838 |
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Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적]
[1] | 1827 |
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 1802 |
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Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas]
[1] | 1777 |
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전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
[1] | 1705 |
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74 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning]
[1]  | 1665 |
