Remote Plasma RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의

2019.01.16 13:12

이기성 조회 수:756

안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20182
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68698
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
59 플라즈마 챔버 [2] 1242
58 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1220
57 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1191
56 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1175
55 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1172
54 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1162
53 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1156
52 공정플라즈마 [1] 1145
51 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1060
50 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1056
49 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
48 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 996
47 anode sheath 질문드립니다. [1] 983
46 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 973
45 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 972
44 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 920
43 Plasma Generator 관련해서요. [1] 910
42 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 862
41 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 845
40 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 833
쓰기
태그

Boards

XE Login