Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.
2017.08.03 10:57
안녕하세요.
저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.
장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.
즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...
일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] | 75748 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19430 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56657 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67984 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90188 |
| 753 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143633 |
| 752 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134363 |
| 751 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94811 |
| 750 | Plasma source type | 79105 |
| 749 | Silent Discharge | 64525 |
| 748 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54284 |
| 747 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47493 |
| 746 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43616 |
| 745 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 41007 |
| 744 | 대기압 플라즈마 | 40446 |
| 743 | RF frequency와 RF power 구분 | 38971 |
| 742 | Ground에 대하여 | 38961 |
| 741 | Self Bias | 36314 |
| 740 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35526 |
| 739 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34818 |
| 738 | PEALD관련 질문 [1] | 32162 |