Ion/Electron Temperature 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [Light flower bulb]
2021.08.12 16:29
안녕하세요. 경희대학교에서 플라즈마에 대한 학부연구를 진행하고 있는 박준우라고 합니다.
플라즈마의 전자 온도에 대한 간단한 질문이 있어 QNA 드립니다.
플라즈마 내의 전자가 물질(substrate)과 충돌했을 때, 맞은 substrate의 전자도 온도가 올라가는 것으로 알고 있습니다.
이 때 일반적으로 진공에 떠돌아 다니는 전자의 온도와, substrate의 전자 온도의 정의를 똑같이 할 수가 없다고 하는데, 정확히 어떻게 정의가 달라지는지 궁금하여 질문 드립니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] | 79733 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21378 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58172 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69754 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 94691 |
| 820 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate] | 146426 |
| 819 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134512 |
| 818 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] | 96718 |
| 817 | Plasma source type [CCP, ICP, TCP] | 79861 |
| 816 | Silent Discharge | 64593 |
| 815 | VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] | 55297 |
| 814 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] | 48228 |
| 813 | 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] | 43799 |
| 812 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 41418 |
| 811 | 대기압 플라즈마 | 40769 |
| 810 | Ground에 대하여 | 39707 |
| 809 | RF frequency와 RF power 구분 | 39203 |
| 808 | Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자] | 36444 |
| 807 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] | 36148 |
| 806 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] | 35078 |
| 805 | PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] | 32751 |