안녕하세요?

장비업체에서 근무하고 있는 엔지니어 입니다.

예전 책에서 공부한 바에 따르면 압력이나 챔버가 일정한 상태에서는

RF Power가 증가하면 전자의 에너지는 증가할 수 있지만 이 에너지는 이온화 과정에서 잃어버리기 때문에

밀도는 증가하는 것이고 Te는 일정하다고 알고있었는데,

실제 플라즈마 진단 테스트를 해보니까

RF Power가 증가함에 따라 플라즈마 밀도와 전자온도 다 증가하는 결과를 얻었습니다.

소스 타입은 ICP이고 수소 플라즈마 입니다.

이 경우, 전자온도가 매우 높아서 이온화를 하고도 에너지가 남을 만큼 큰 에너지를 얻었기 때문인가요?

어떤 메커니즘으로 이런 현상이 일어나는지 궁금합니다.

답변 주시면 감사하겠습니다.